====== Проводники в электростатическом поле. Метод зеркального отображения. Граничные условия. Электрическая ёмкость ====== ===== 2.1. Заряд в двугранном прямом угле ===== **Условие:** Металлические полуплоскости образуют двугранный прямой угол. Заряд $Q$ расположен в точке $(a,b)$ от вершины угла (на расстоянии $a$ от одной грани и $b$ от другой). Найти распределение индуцированных на плоскостях зарядов $\sigma(x,z)$ и $\sigma(y,z)$. **Решение:** Пусть грани угла — полуплоскости $x=0\ (y\ge0)$ и $y=0\ (x\ge0)$, заряд $Q$ находится в точке $(a,b,0)$, $a,b>0$. Для прямого угла метод изображений замыкается тремя фиктивными зарядами (для произвольного угла $\pi/n$ метод замыкается только при целом $n$; здесь $n=2$): $$-Q\text{ в }(-a,b,0),\qquad -Q\text{ в }(a,-b,0),\qquad +Q\text{ в }(-a,-b,0).$$ Потенциал в физической области $x,y\ge0$: $$\varphi=\frac{Q}{r_1}-\frac{Q}{r_2}-\frac{Q}{r_3}+\frac{Q}{r_4},$$ $$r_1^2=(x-a)^2+(y-b)^2+z^2,\ \ r_2^2=(x+a)^2+(y-b)^2+z^2,\ \ r_3^2=(x-a)^2+(y+b)^2+z^2,\ \ r_4^2=(x+a)^2+(y+b)^2+z^2.$$ На каждой грани тангенциальные составляющие всех четырёх зарядов взаимно уничтожаются (проверяется прямой подстановкой $x=0$ или $y=0$), поле чисто нормальное, и $\sigma=E_n/4\pi$, где $n$ — нормаль, направленная от проводника в область поля. **На грани $x=0$ ($y\ge0$):** здесь $r_1=r_2\equiv r_a=\sqrt{a^2+(y-b)^2+z^2}$, $r_3=r_4\equiv r_b=\sqrt{a^2+(y+b)^2+z^2}$. Вычисляя $E_x=-\partial\varphi/\partial x$ при $x=0$ (вклады $Q/r_1$ и $-Q/r_2$ складываются, а $-Q/r_3$ и $Q/r_4$ — тоже), получаем $$\sigma(y,z)=\frac{Qa}{2\pi}\left[\frac{1}{r_b^3}-\frac1{r_a^3}\right]=\frac{Qa}{2\pi}\left[\frac1{\bigl(a^2+(y+b)^2+z^2\bigr)^{3/2}}-\frac1{\bigl(a^2+(y-b)^2+z^2\bigr)^{3/2}}\right].$$ **На грани $y=0$ ($x\ge0$):** по симметрии ($a\leftrightarrow b$, $x\leftrightarrow y$): $$\sigma(x,z)=\frac{Qb}{2\pi}\left[\frac1{\bigl(b^2+(x+a)^2+z^2\bigr)^{3/2}}-\frac1{\bigl(b^2+(x-a)^2+z^2\bigr)^{3/2}}\right].$$ Оба распределения отрицательны вблизи проекции заряда на соответствующую грань (ближайшая точка притягивает наведённый заряд того же знака, что и знак «$-$») и обращаются в нуль на бесконечности и у самой вершины угла (при $y=b,z=0$ для первой формулы второе слагаемое максимально по модулю и превышает первое, так как $r_aR$). Определить поверхностную плотность заряда на сфере. **Решение:** Классический образ для сферы: заряд-изображение $q'=-QR/\ell$ помещается на том же луче на расстоянии $R^2/\ell$ от центра. Потенциал вне сферы (в сферических координатах с полярной осью на $Q$, $\theta$ — угол от направления на $Q$): $$\varphi(r,\theta)=\frac{Q}{\sqrt{r^2+\ell^2-2r\ell\cos\theta}}-\frac{QR/\ell}{\sqrt{r^2+R^4/\ell^2-2rR^2\cos\theta/\ell}}.$$ Поверхностная плотность $\sigma=-\dfrac1{4\pi}\dfrac{\partial\varphi}{\partial r}\Big|_{r=R}$ (нормаль наружу из проводника). После дифференцирования и упрощения (стандартный результат метода изображений для сферы): $$\sigma(\theta)=-\frac{Q(\ell^2-R^2)}{4\pi R\,(R^2+\ell^2-2R\ell\cos\theta)^{3/2}}.$$ Плотность максимальна по модулю при $\theta=0$ (ближайшая к заряду точка сферы) и убывает с ростом $\theta$; знак всюду отрицателен (индуцированный заряд притягивается к $Q>0$). Интеграл $\oint\sigma\,dA$ по всей сфере даёт полный наведённый заряд $q'=-QR/\ell$ (можно проверить прямым интегрированием — стандартная проверка правильности решения). **Ответ:** $$\sigma(\theta)=-\frac{Q(\ell^2-R^2)}{4\pi R(R^2+\ell^2-2R\ell\cos\theta)^{3/2}}.$$ ===== 2.4. Конденсатор с металлической сеткой ===== **Условие:** Изменится ли ёмкость плоского конденсатора (площадь пластин $S$, расстояние между ними $d$), если: а) параллельно пластинам расположить металлическую сетку на расстоянии $a$ от одной из обкладок; б) затем соединить сетку с этой обкладкой; в) или заземлить сетку и соединить пластины проводом таким образом, чтобы сетка и пластины представляли собой две обкладки конденсатора? **Решение:** Ключевое отличие сетки от сплошной пластины: сетка электрически «прозрачна» для поля (силовые линии проходят между проводами сетки), если сетка не подключена к цепи — в этом случае она не искажает распределение поля в первом приближении (густая сетка). **а) Сетка изолирована (плавающий потенциал).** Поле беспрепятственно проходит сквозь сетку, распределение поля между обкладками не меняется: $$C_a=\frac{\varepsilon S}{4\pi d}=C_0\ \ (\text{не изменится}).$$ **б) Сетка соединена с ближайшей обкладкой.** Сетка становится эквипотенциальной с этой обкладкой. Область между сеткой и «своей» обкладкой (толщиной $a$) оказывается ограничена с обеих сторон одинаковым потенциалом без объёмного заряда — поле там обращается в нуль, и эта область выпадает из рабочего зазора. Эффективное расстояние между разнополюсными обкладками сокращается до $d-a$: $$C_b=\frac{\varepsilon S}{4\pi (d-a)}>C_0\ \ (\text{увеличится}).$$ **в) Сетка заземлена, обе исходные пластины соединены проводом между собой.** Теперь сетка (потенциал $0$) и объединённые пластины (общий потенциал $V$) образуют два плоских конденсатора, включённых **параллельно** между одними и теми же двумя узлами: один — зазор $a$ (сетка–ближняя пластина), другой — зазор $d-a$ (сетка–дальняя пластина): $$C_в=\frac{\varepsilon S}{4\pi a}+\frac{\varepsilon S}{4\pi (d-a)}=\frac{\varepsilon S}{4\pi}\cdot\frac{d}{a(d-a)}.$$ Поскольку $d^2>a(d-a)$ всегда (это равносильно $(d-2a)^2\ge0$... точнее $d^2-a(d-a)=d^2-ad+a^2=(a-d/2)^2+3d^2/4>0$), получаем $C_в>\varepsilon S/(4\pi d)=C_0$ — ёмкость увеличивается, причём сильнее, чем в случае б). **Ответ:** а) не изменится, $C=\varepsilon S/(4\pi d)$; б) увеличится, $C=\varepsilon S/[4\pi(d-a)]$; в) увеличится ещё больше, $C=\dfrac{\varepsilon S}{4\pi}\cdot\dfrac{d}{a(d-a)}$.